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Intel will Milliarden in neuen israelischen Standort investieren

in Israel Zwischenzeilen/Wirtschaft & Innovation

Es ist eine Investition bisher ungesehenen Ausmasses: Das US-Unternehmen Intel Corp. hat mit der israelischen Regierung eine Grundsatzvereinbarung über den Bau einer Chipfabrik in Kiryat Gat mit einer Investitionssumme von 25 Mrd. USD unterzeichnet. Diese Investition soll in den Bau einer Chipfabrik fliessen, die die fortschrittlichsten Technologien der Welt nutzen werde.

Die Ankündigung erfolgte, nachdem eine grundsätzliche Einigung zwischen Intel und dem israelischen Finanzministerium über die Investitionspläne erzielt worden war. Als Teil der Vereinbarung wird Intel einen Steuersatz von 7,5 Prozent zahlen, statt der 5 Prozent, die der Chiphersteller heute an den Staat zahlt. Darüber hinaus wurde vereinbart, dass Intel einen staatlichen Zuschuss in Höhe von 12,8 Prozent der Investitionssumme im Rahmen des Gesetzes zur Förderung von Kapitalinvestitionen (ECIL) erhalten wird.

Die Fabrik in Kiryat Gat soll 2027 in Betrieb genommen werden und bis mindestens 2035 in Betrieb bleiben, wobei Tausende von Arbeitern zu überdurchschnittlichen Löhnen beschäftigt werden sollen, so das Ministerium. Das High-Tech-Unternehmen Intel betreibt seit 1974 Standorte in Israel.

Der bisherige Intel-Standort in Kiryat Gat (Bild: Lehava Center Qiryat Gat).

Redakteurin Katharina Höftmann Ciobotaru arbeitete im Auslandsbüro der dpa in Tel Aviv und für die WELT ONLINE. Sie lebt als freie Journalistin und Buchautorin in Tel Aviv («Guten Morgen Tel Aviv», «Die letzte Sünde»).

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